中国的国产光刻机有望实现“遥遥领先”！据消息人士透露，中国科学家已经打造出一台极紫外光刻机（EUA）的原型机，极紫外光刻机是实现高良率8纳米以下芯片制造的必要设备。中国并非不能生产8纳米以下的芯片，只是良率不达标，导致生产成本过高，需要攻克关键设备、材料、工艺等技术。虽然难度很高，但中国的技术突破能力有目共睹，假以时日必能取得成功。
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用户41xxx16
消息是真的，不过试验加安装，最后再测试还要4年时间，如果一切顺利2030年可以完全量产
用户12xxx37
废话一篇
阳光普照
把路全部塞满，让西方世界强盗们无路可走
用户86xxx43
一万年太久，只争朝夕，加油！
小学生
哪来的消息？
用户86xxx43 回复 12-19 08:40
去问老师
用户10xxx38
明年这时候5纳米芯片就量产了！