光刻机技术很难突破吗? 光刻机技术突破那是相当难。它可是“现代工业皇冠上的明珠”，决定着半导体产业链的“天花板”。 先说说极紫外光（EUV）光源，要产生稳定强大的这种光源，得靠高功率激光、等离子体等复杂物理过程，比如把直径约30微米的锡滴悬空喷射，用二氧化碳激光连续两次击中炸出等离子体产生光，每秒还得精准命中数万次，难如登天。 高精度光学系统也不容小觑，镜片材料和制造精度要求极高，误差仅允许几个原子级别，就像把城市地图缩小百万倍还不能变形。 另外，纳米级对准和控制、软件处理与流程集成也都极具挑战，再加上巨额资金与长期研发投入，技术积累与专利壁垒又高，所以光刻机技术突破真不是件容易事。
