半导体产业去日化设备： 涂胶显影设备：芯源微（日本占比95%）； 探针台：矽电股份（日本占比80%）； 测试机：长川科技、华峰测控、精智达（日本占比60%）；材料： 光刻胶：上海新阳、鼎龙股份、彤程新材（日本占比85%）； 光刻胶配套试剂：格林达（日本占比85%）； 掩膜版：路维光电、龙图光罩、清溢光电、（日本占比60%）；零部件：陶瓷结构件：珂玛科技（日本占比90%）；分子泵：京仪装备（日本占比40%）；财经a股
半导体产业去日化设备： 涂胶显影设备：芯源微（日本占比95%）； 探针台：矽电股份（日本占比80%）； 测试机：长川科技、华峰测控、精智达（日本占比60%）；材料： 光刻胶：上海新阳、鼎龙股份、彤程新材（日本占比85%）； 光刻胶配套试剂：格林达（日本占比85%）； 掩膜版：路维光电、龙图光罩、清溢光电、（日本占比60%）；零部件：陶瓷结构件：珂玛科技（日本占比90%）；分子泵：京仪装备（日本占比40%）；财经a股
