近日，一则消息着实令人震惊。2026年4月10日，浙江大学借助万通道激光纳米技术，成功研制出全球首台高端芯片光刻机——三D光刻机，功率提升了百分之七十。
实际上，此前浙大就已研发出万通道3D纳米激光直写光刻机，且计划于2027年下半年实现商用量产，这极有可能打破美日荷的长期垄断局面。传统单通道制作掩模版需7天时间，而这台设备仅需4小时，效率大幅提升，还能制作3D立体纳米结构，价格也较为实惠。
此外，中国还有铸锻铣一体化金属3D打印这一黑科技，美国三次求购均遭拒绝。以往制造大飞机、火箭的关键零件，工序复杂，材料利用率低。而这项技术将铸造、锻造、铣削整合，一台机器就能完成一整条生产线的工作，实在令人惊叹！希望科技能不断实现突破，有力打破“卡脖子”困境！