华为提出的“韬定律”也算是弯道的极限超车，起码不再被光刻机卡脖子！
这也算是另辟蹊径，不死磕怎么把芯片做的更小，而是研究怎么把性能做的最好？
其实用个通俗易懂的例子就能够听明白，摩尔定律是把马路越修越窄，想在同一片地塞更多车道、跑更多车；而韬定律是优化道路布局，让车跑起来更少堵车，通过这种方式提高通行效率。
这样就能绕开EUV封锁，咱们国内量产的DUV光刻机就能满足要求，有了韬定律的加持，14nm工艺能跑出5nm性能，7nm能逼近3nm，那些不怀好意的封锁又要泡汤了！