“光刻机没有一个国家可以做得到，美国都造不出，中国根本做不到！”“中国永远都造不出光刻机？”
光刻机确实不是普通工业设备，更不是买几套零件照着装就能成的机器。ASML官网介绍，EUV光刻使用13.5纳米极紫外光，新一代高数值孔径EUV设备已经面向更先进节点。

它背后牵着光源、镜片、工件台、控制软件、光刻胶、计量检测、洁净装调等一长串环节，任何一处掉链子，整机都很难稳定进晶圆厂产线。

ASML的供应链也不是荷兰一家能包圆，其2025年年报及相关信息显示，企业依赖庞大的全球供应体系和长期合作网络。

朱士尧所说“没有一个国家可以做得到”，如果指单个国家闭门造出全套顶尖EUV生态，这个判断并不算离谱。美国也造不出完整EUV整机，并不等于美国技术弱，而是半导体装备早已进入全球分工时代。
 
EUV光源绕不开美国Cymer路线，ASML在2013年完成对Cymer的收购，正是为了推进EUV光源能力；顶级光学系统又离不开德国蔡司；ASML真正厉害的地方，是把这些极端零部件整合成能服务大规模制造的系统。
换句话讲，今天的光刻机不是某个国家的单人项目，而是一张被长期资本、客户工艺和供应链协同织起来的网。可问题也出在这里。

既然顶尖光刻机不是一个国家能单独完成的，凭什么就能推出“中国永远也造不出来”？“永远”两个字太满，也太早。

 科技日报在2018年就提醒过，国产22纳米分辨率光刻装备不能直接等同于制造CPU的投影式光刻机，它更适合某些特殊制造场景，不能被包装成“国产芯片马上白菜化”。
这篇文章当年的价值，不是唱低中国，而是把实验室成果、特殊光刻装备和晶圆厂量产设备分开讲清楚。中国在光刻机上真正需要面对的，不是口号上的输赢，而是工程上的一关接一关。

清华大学2016年发布消息，国家科技重大专项“光刻机双工件台系统样机研发”通过内部验收，目标是为65纳米至28纳米双工件台干式及浸没式光刻机提供自主核心子系统。

同年5月，清华又披露，团队研制出两套光刻机双工件台掩模台系统α样机，成为02专项光刻机项目群中通过正式验收的重要成果。双工件台听起来没有EUV光源那么吸引眼球，但它决定晶圆和掩模能不能在高速运动中保持纳米级同步，属于绕不过去的硬骨头。

当然，承认这些进展，不代表可以把传闻当成果。2026年5月，围绕“上海微电子28纳米浸没式DUV光刻机已交付、良率达到90%到95%”的说法在网络上传播，但公开可靠信源并未能支撑这种表述。

国产光刻机最怕的不是进展慢，而是被夸张叙事拖着跑。真正有分量的突破，必须经得起产线验证、长期运维、备件供应和客户反复使用，而不是靠一句“已经交付”就把产业差距抹平。

外部环境也在把中国逼向更难但更清醒的路。荷兰政府2024年9月宣布扩大先进半导体制造设备出口管制，更多设备需要国家许可；美国商务部工业与安全局2024年12月进一步收紧对中国大陆先进半导体制造相关设备、软件和企业的限制。

到了2026年6月，ASML还对路透社表示，从未向中国大陆交付EUV光刻机，也没有向中国大陆交付专门用于EUV系统的部件、模块或设备。进口通道越来越窄，幻想买来最先进设备解决问题，本来就不现实。

因此，光刻机争论的重点不该停在“能不能造”这四个字上。更准确的问题应当是，中国能不能在成熟制程设备上先建立稳定供给，在关键零部件上逐步减少受制于人，在先进制程方向上持续积累光源、物镜、掩模、光刻胶、检测和计算光刻能力。

光刻机不是一台机器，而是一整套工业耐心。它需要大学、科研院所、设备企业、材料企业、晶圆厂一起磨，哪怕一个环节只前进一点，长期叠加起来也不是小数。

朱士尧这句话最有价值的部分，是提醒公众不要低估光刻机难度；最值得商榷的部分，恰恰是“永远”二字。一个国家面对技术封锁时，最危险的不是承认差距，而是假装没有差距；但同样危险的是，把今天的差距写成明天的宿命。