新加坡联合早报今晚（9月15日晚）报道：“中国官方本月发布首台（套）重大技术装备推广应用指导目录，包含了套刻等于及少于8纳米的氟化氩光刻机，意味着中国可能已研发出可生产8纳米及以下芯片的国产深紫外光刻机。”
[机智]评几句：这种不屈不挠，压不垮，打不弯的精神，支撑着中国，使中国终究会浴火重生。国产8纳米光刻机正式列入应用指导目录，这标志着该技术并非近期才研发成功，而是已经达到完全成熟的阶段，并进入了普及应用的新时期。光刻机已经解决了从无到有的问题，后期迭代速度可能会比预想的快。
新加坡联合早报今晚（9月15日晚）报道：“中国官方本月发布首台（套）重大技术装备推广应用指导目录，包含了套刻等于及少于8纳米的氟化氩光刻机，意味着中国可能已研发出可生产8纳米及以下芯片的国产深紫外光刻机。”
[机智]评几句：这种不屈不挠，压不垮，打不弯的精神，支撑着中国，使中国终究会浴火重生。国产8纳米光刻机正式列入应用指导目录，这标志着该技术并非近期才研发成功，而是已经达到完全成熟的阶段，并进入了普及应用的新时期。光刻机已经解决了从无到有的问题，后期迭代速度可能会比预想的快。
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