阿斯麦高端EUV光刻机量产！
5月21日，全球光刻机巨头阿斯麦（ASML）正式官宣技术里程碑，新一代High-NA EUV光刻机EXE:5200B成功实现量产，全球先进芯片制程竞赛迈入全新阶段，2nm及以下超高端芯片正式具备规模化生产能力。
这款全新光刻机是目前全球唯一可支撑2nm、1nm极致制程的核心设备，分辨率相较上代设备提升40%，单曝光即可完成超先进制程加工，无需多次叠加曝光，大幅提升芯片良品率与生产效率。设备单台造价高达4亿美元，约合27亿人民币，造价翻倍、技术壁垒全球无解。
目前该设备已实现稳定量产，可24小时不间断作业，累计可加工超50万片晶圆，英特尔、SK海力士已率先装机布局先进制程，抢占下一代芯片市场先机。
