重大突破！我国借助AI技术，攻克芯片光刻胶核心制备难题

芯片制造离不开光刻胶，它是决定芯片性能和良品率的关键核心材料。长期以来，高端光刻胶的核心制备技术，一直被海外少数企业垄断，核心工艺如同“黑箱”，严重制约我国半导体产业自主发展步伐。

近日迎来好消息，上海人工智能实验室联合厦门大学、苏州国家实验室等科研力量，依托国家重大专项部署，借助自研书生科学大模型，打造出AI决策+自动化合成闭环研发体系，成功攻克KrF光刻胶树脂稳定制备技术。

简单来说，咱们不靠国外封锁的技术路径，走出了属于自己的标准化研发道路。通过AI赋能研发，不仅实现光刻胶树脂高纯度、高品质量产，还大幅提升批次之间的稳定性，研发效率也实现跨越式提升。

目前这项技术已经完成多批次合成与性能验证，合作企业完成配方适配，各项关键指标达到行业标准，接下来将进入下游客户端实测验证阶段。

这项突破意义十分深远，不仅打破了海外技术垄断，补齐芯片材料领域短板，也开创了AI赋能半导体材料研发的新范式。往后不再依赖国外技术“卡脖子”，为我国光刻胶国产化、芯片产业链自主可控打下坚实基础。

随着技术落地验证提速，国内光刻胶产业链相关企业，有望迎来新的发展机遇，国产替代进程也将进一步加快。

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消息来源：上海人工智能实验室官方发布